Přejít na obsah
LRCXLRCX
Zpět na vyhledávání
LRCX
LRCXNasdaqGS

Lam Research Corporation

Technology•United States
318,84 US$
-1,75 US$ (-0,55 %)

Tažením v grafu vyberte úsek a zobrazí se procentuální změna.Tažením dvěma prsty vyberte úsek a zobrazí se procentuální změna.

Kapitálová struktura

Tržní kapitalizace
399 mld. US$
Enterprise Value
397,51 mld. US$
Hotovost
5,58 mld. US$
Celkový dluh
4,12 mld. US$
Čistý dluh
-1,46 mld. US$

Valuace (TTM)

P/E
55,64×
P/E (fwd)
27,10×
P/FCF
81,58×
FCF výnos
1,23 %
EV/EBITDA
46,00×
P/S
—
P/B
31,99×
Beta
1,85

Marže (TTM)

Hrubá marže
50,47 %
EBITDA marže
37,20 %
Provozní marže
37,39 %
Čistá marže
31,27 %
FCF marže
21,05 %

Ziskovost a růst

ROE (rentabilita kapitálu)
65,07 %
Růst tržeb (YoY)
30,00 %
Růst zisku (YoY)
34,80 %

Dividenda

Dividendový výnos
0,41 %
Roční dividenda
1,32 US$
Výplatní poměr
18,06 %
Datum ex-dividendy
2026-09-23

52týdenní rozpětí

134,04 US$438,50 US$
Aktuální
318,84 US$
Pozice v pásmu
61 %
Nad ročním minimem
+137,87 %
Pod ročním maximem
-27,29 %

Cena v kontextu

-26,42 %od historického maxima
Historické maximum
433,33 US$
Datum maxima
30. 6. 2026
Zpět na maximum
+35,91 %
200denní průměr
278,44 US$
Odchylka od průměru
+14,51 %

O společnosti

Web

Lam Research Corporation designs, manufactures, markets, refurbishes, and services semiconductor processing equipment used in the fabrication of integrated circuits in the United States, China, Korea, Taiwan, Japan, Southeast Asia, and Europe. The company offers ALTUS systems to deposit conformal or selective films for tungsten or molybdenum metallization applications; SABRE electrochemical deposition products for copper interconnect transition, which support copper damascene manufacturing; Striker single-wafer atomic layer deposition products for dielectric film solutions; and VECTOR plasma-enhanced chemical vapor deposition (CVD) products. It also provides Akara, a conductor etch system designed to enhance etch precision, selectivity, and defect control; Argos, Prevos, and Selis, which are selective etch systems used in the fabrication of advanced logic and memory devices that require precise control at nanoscale dimensions; Flex for dielectric etch applications; Vantex, a dielectric etch system that provides RF technology and repeatable wafer-to-wafer performance enabled by Equipment Intelligence solutions; Kiyo for conductor etch applications; Syndion for deep silicon etch; and Versys metal products for metal etch processes. In addition, the company offers Coronus bevel clean products to enhance die yield and Da Vinci, DV-Prime, EOS, and SP series products to address various wafer cleaning applications. Further, it provides Reliant deposition, etch, and clean products; Sense.i platform products; and customer service, spares, and upgrades. Lam Research Corporation was incorporated in 1980 and is headquartered in Fremont, California.

Vedení společnosti

Mr. Timothy M. Archer
Generální ředitel (CEO)
  • Mr. Douglas R. BettingerExecutive VP & CFO
  • Mr. Seshasayee VaradarajanExecutive VP & COO
  • Mr. Vahid Vahedi Ph.D.Senior VP, Chief Technology & Sustainability Officer
  • Mr. Neil J. FernandesSenior VP of Global Customer Operations
  • Ms. Christina C. CorreiaChief Accounting Officer & Group VP
  • Mr. Ram GaneshVice President of Investor Relations
  • Ms. Ava A. Harter J.D.Senior VP, Chief Legal Officer & Secretary
  • Mr. Steve FineGroup VP & Chief Communication Officer
  • Ms. Mary Teresa HassettSenior VP & Chief Human Resources Officer